產品時間:2022-06-09
賽(sai)默飛世爾(er)紫(zi)外(wai)分(fen)光(guang)光(guang)度計(ji)Evolution 201 220是全新一(yi)代的(de)(de)紫(zi)外(wai)可見光(guang)分(fen)光(guang)光(guang)度計(ji)。擁有強(qiang)大的(de)(de)軟件(jian)、的(de)(de)技術、以及一(yi)整套的(de)(de)附屬設備,能夠提(ti)供您所期望的(de)(de)高質(zhi)量實驗結果。具(ju)有便(bian)捷和多樣化的(de)(de)分(fen)析功能。
賽默飛世爾紫外分光光度計Evolution 201 220擁有強大(da)的軟件、的技術、以(yi)及一整套的附屬設備,能夠提(ti)供您所期望(wang)的高質量實驗結果(guo)。具有便捷(jie)和(he)多樣化的分析功能。
賽默飛世爾紫外分光光度計Evolution 201 220采用了賽(sai)默飛(fei)世爾科技科研技術(shu),以其*的(de)雙光束光路設(she)計(ji)、的(de)INSIGHT用戶軟件(jian)、完備而功能(neng)強大(da)的(de)光譜附件(jian),為(wei)用戶提(ti)供豐富的(de)光譜分析功能(neng),全面的(de)定量分析和(he)動力學分析解決方(fang)案(an),并可輕松(song)應對挑戰性樣品(pin),如散射(she)物(wu)質的(de)透射(she)性能(neng)分析,反(fan)射(she)測量等。Evolution 200系列產(chan)品(pin)提(ti)供本地控制和(he)計(ji)算機(ji)控制兩(liang)種配置,也(ye)可以把兩(liang)種控制模式結合起來,其均使用相同的(de)INSIGHT軟件(jian),使儀器始終都處(chu)于*的(de)狀態,提(ti)供便捷(jie)和(he)多樣化的(de)分析功能(neng)。2011年(nian)7月,產(chan)品(pin)榮膺被譽為(wei)科技界“創新(xin)奧斯(si)卡”的(de)R&D 100大(da)獎。
特點:
1.主頁面把測試和使用方法顯示在*個頁面,方便瀏覽和使用。
2.用CUE 軟件建立自己的分析方法,CUE是一個使用簡單、一步一步的類似流程圖的工具,可以為分析制定完整的多步驟分析流程。適應所有的QA/QC應用程序,具有豐富的光譜分析功能,能夠全面的定量分析解決方案,可自動顯示、保存和輸出結果的功能。
3.一整套的樣品池轉換器,溫度控制和監測設備,光纖實驗系統,以及用來測量固體樣品反射和透射的附件,拓展分光光度計的功能,提升了儀器的價值。
4.高性能,為用戶體驗而設計。1.0nm的分辨率,雙光束(Double-Beam)配置都能提供zui準確的數據;光學匯聚技術;可屏蔽的樣品檢測器;樣品倉不受環境光線影響,測量過程中可打開,配有開啟按鈕的滑動樣品倉開啟門。
5.便捷的手控功能,采用觸摸屏的內置計算機可用手指進行常規操作。
6.觸發信號連接幫助您與外界進行互動。
7.USB接口可外接計算機,從而通過INSIGHT軟件進行儀器控制、數據分析、存儲。
8.單色儀在保證波長準確前提下,實現快速掃描功能,掃描速度從<1到6,000nm/min。
9.汞燈端口可提供全波長范圍的波長準度和波長再現性的校準。
10.閃爍氙燈光源僅在進行測量的時候發出強烈的閃光,能夠保證持續工作3年,具有使用成本低廉,維修間隔周期長,在可見光區和紫外區都具有很高強度,不需要預熱的優點。
11.INSIGHT軟件:簡單好用,成熟精深,具有的多功能和靈活性:掃描測量;固定波長測量;定量分析;動力學分析;
12.可本機控制、計算機控制、或者把本機控制和計算機控制結合起來。
13.的溫度控制。
14.系統性能的可靠保證,校準評價圓盤(CVC)能夠為常規的儀器測試提供可溯源的標準,能自動測試性能。
15.積分球可分析散射物質的透射性能、反射性能。
技術參數:
Evolution 201紫(zi)外分光光度計 | Evolution 220紫外(wai)分光光度計 | |
光(guang)學系統設計 | 雙光束配(pei)有(you)樣品和參(can)比池架(jia)位(wei)置;Czerny-Turner單色儀(yi) | 雙光束配有樣品和參比池(chi)架位置;AFBG技(ji)術;Czerny-Turner單色(se)儀 |
光(guang)譜帶寬 | 1.0 nm | 可(ke)變(bian):1 nm或者2 nm;AFBG微量池優化;AFBG光纖模(mo)塊優化;AFBG材料測試(shi)優化 |
光源 | 閃爍式(shi)氙(xian)燈,質保3年(一般(ban)可用5年) | |
檢測(ce)器 | 雙硅光電二(er)極管 | |
掃描坐標模式(shi) | 吸光度(du)Abs,透射率T%,反射率R%, Kubelka-Munklog(1/R),log(Abs),Abs*Factor,強(qiang)度Intensity | |
分辨(bian)率 | >1.6(峰-谷比(bi);甲苯正己烷) | |
波長范圍(wei) | 190到1100 nm | |
波(bo)長準度(du) | ±0.8 nm(全量(liang)程190到1100 nm)±0.5 nm(546.11 nm汞線) | |
重(zhong)復性 | 0.1 nm(546.11 nm汞線, 10次測量(liang)標準偏差) | |
掃描速(su)度 | < 1到6000 nm/min,可調節 | |
數據間隔 | 10,5,2,1.0,0.5,0.2,0.1 nm | |
吸光度范(fan)圍(wei) | > 3.5 A | |
吸(xi)光度顯示(shi)范圍(wei) | -0.3到4.0 B1115A | |
儀器準度 | 0.5 A:± 0.004 A ,1 A:± 0.006 A , 2 A:± 0.010 A 依照(zhao)NIST/NPL,使用中等強度濾光片,在440 nm測(ce)量 | |
準度—密封溶液(EP/BP/TGA) | ± 0.010 A(60 mg/L K2Cr2O7) | |
噪聲(sheng) | 0 A: 0.00015 A ,1 A: 0.00050 A ,2 A: 0.00080 A ,260 nm,1.0 nm SBW,RMS | |
漂移(穩定(ding)性) | < 0.0005 A/hr ,500 nm,1.0 nm SBW,1小時預熱 | |
雜散光(guang) | KCl,198 nm: 1% T ;Nal,220 nm: 0.05% T ;NaNO2,340 nm: 0.05% T | |
基線平直度(du) | ± 0.0010 A ,200到800 nm,1.0 nm SBW,平滑處理 | |
鍵盤(pan) | 膜密(mi)封 | |
本機控(kong)制顯示 | 觸(chu)摸屏(ping)LCD面板;800×480;17.8 cm(對角(jiao)線)屏幕 | |
本(ben)機控制操作系統 | 內置微軟Windows XP | |
尺寸 | 62.2 cm長(chang) ×48.6 cm寬 × 27.9 cm高 | |
重量 | 14.4公斤 | |
電源 | 100-240伏,50-60Hz,自動選擇(ze)zui大功率150瓦 |